2.3 控制执行电路
对于样品的控温,需要较大的功率,因此涉及对高电流及高电压的精确控制,这是该系统的设计重点之一。系统的加热与制冷采用不同的机制来实现,实现了高精度的电压电流控制。加热电路采用全隔离单相交流调压模块。全隔离单相交流调压模块是集同步变压器、相位检测电路、移相触发电路和输出可控硅于一体,当改变控制电压的大小,就可改变输出可控硅的触发相角,实现单相交流电的调压。由中心处理器输入0~10 V直流控制信号,输出0~220 V可调交流电压,驱动加热丝进行加热。该系统采用PwM脉冲对半导体致冷片Peltier进行控制,通过调节脉冲的占空比来控制制冷的程度。制冷电路通过PwM控制积分电路的充电以及放电,当PwM脉冲为低电平时,MOS管导通,电容开始充电,电流经Peltier及电感流到地;当PwM脉冲为高电平时,MOS管截止,由于电流突变,电感产生较大的电动势,这时电流呈线性下降的趋势,通过控制MOS管的导通和截止,就能形成与脉冲的占空比有关的电流,以驱动致冷片Peltier进行制冷。电路中的电感与电容组成的电感电容滤波器在这里有2个功能:一是减少PwM驱动造成的电磁干扰;二是滤波使得较为稳定的电压输出提升了Peltier的制冷性能。系统还接有风扇,直接对场效应管进行散热。系统的PWM积分电路如图4所示。
2.4 电压测量电路
由于热电材料两端输出的电压信号较微弱,为微伏量级,因此采用高精度的24位A/D转换器AD7714,测量精度可达1μV。样品两端的电势差以全差分的形式输入至24位A/D转换电路,经A/D转换后的数字信号,光电隔离后输入中心控制器,具有较高的抗干扰性。
2.5 中心处理器
中心处理器是热电材料温度控制测量仪的核心,用于实现测量以及控制的功能。系统采用MSP430F157作为中心处理器的MCU,具有8路12位A/D转换以及2路12位D/A转换,支持多路测温以及双通道控制信号输出,可以满足系统对于2路的温度测量以及加热制冷控制的要求。有利于简化系统设计,提高集成度以及系统稳定性。
中心处理器还实现与上位PC机的USB通信功能。本系统选用NI的LabView作为监控软件开发平台,给测试工作带来了很大的方便;同时也带来一种人性化的信息。该系统可外接液晶显示和键盘,可以脱离上位机进行测量,具有较高的灵活性。
3 算法分析
该系统采用模糊自调整PID控制,既具有模糊控制动态响应快、适应性强的特点,又具有PID控制精度高的特点,可达到较高的动、静态性能。
典型的离散差分PID表达式为:
式中:ui为第i个采样时刻系统输出量;e(k)为第k个采样时刻系统的输入偏差;Kp为比例系数;KI为积分系数,KI=KPT/TI;KD为微分系数,KD=KPTD/T。
系统中的自调整PID控制器以测量温度值与设定温度值的偏差E和该偏差的变化率EC作为输入,利用模糊理论在线对PID参数进行校正。把偏差E和偏差变化率EC划分为NB,.NM,NS,Zo,PS,PM,PB七个模糊子集。根据| E|I和|EC|所属的模糊子集,计算出相应的PID参数:
式中:Kpi,kIi和KDi(i=1,2,…,5)分别是在不同状态下对参数KP,KI和KD用常规PID参数整定法得到整定值。用在线自整定的PID参数KP,KI,KD就可根据式(3)计算出输出控制值ui。