作为图案复制用的光刻胶，主要的指标有光反应速度、光分辨率、光反应波长、针孔度、粘度等。自97年后，普通的LCD制作用光刻胶基本上都已经把光反应速度提高了一倍以上，使定向层制作前的生产能力大大提升。现在市面上的LCD制作用光刻胶光反应时间几乎都可以在10秒以下。光分辨率在近几年也有了很大进展，现市面上的LCD制作用光刻胶都可以做到PITCH在18微米水平。光反应波长在前几年如果要做到PITCH28微米的水平，波长还得在275纳米以下，经过这几年的发展，现在在400纳米可以反应的光刻胶也可以做到PITCH18微米的水平。

光刻胶的技术由于改良发展较快的缘故，基本上已经解决了针孔率偏高的问题，现在大家几乎都不再考虑针孔率对LCD制作的影响了。粘度的调整要视各家的习惯，一般是50CP的产品由于使用时添加了一定的稀释剂，可以比较好调整涂覆效果，成本也可以降低，但是由于大量使用稀释剂，也使光刻胶的一些性能受到影响，在作比较高档的产品时会有分辨率下降的趋势。而30CP的产品，在涂覆效果上，控制稍显困难，但性能比较稳定，比较适合制作精细度高的产品。

光刻胶的保存条件比较严格，在光线、温度、湿度上都有限制，特别是开瓶使用后的光刻胶和稀释剂，一旦吸潮，其物理化学性能均下降很快。现在光刻胶涂覆工段一般都与自动纯水清洗线连在一起，很多时候都只考虑此段的洁净度，而疏忽了该段的湿度控制，使得光刻胶涂覆的良品率比较低，在显影时光刻胶脱落严重，起不到保护阻蚀的效果。

1、光刻胶的特性：

光刻胶的组成：

LCD使用的光刻胶一般为正性光刻胶，由光敏剂、填料和添加剂混和而成。

光刻胶的特性：

正性光刻胶中的的填料让光刻胶有一定的粘性，加温固化后能得到一定的初始硬度。而正性光刻胶中的光敏剂中一种溶于弱碱的小分子化学品，它在紫外线的作用下聚合成一种不溶于强酸和弱碱的比较致密大分子化合物，但它在强碱中依然可以溶解。

光刻胶的分类：

电子类产品光刻胶分为高感光度光刻胶和低感光度光刻胶。高感光度光刻胶可以制作10μm以内的高精密线路，一般用于IC和LCD微显示器制作，低感光度光刻胶制作精度在10μm以上，一般用于普通LCD产品制作和线路板制作。

影响光刻胶性能的主要参数：
固含量；感光度；粘度；固化温度；针孔率；分辨率

2、光刻胶常用规格表：


 
3、光刻胶工厂自适应测试方法及判定标准：

粘度：
A、测试方法：用粘度计测试待测光刻胶的粘度。
B、判定标准：测试结果粘度值与供应商提供参数一致。
添加剂干燥性能（预烘性能）
A、测试方法：按生产工艺厚度要求，把光刻胶涂覆在ITO导电玻璃上，按供应商提供的温度和时间参数加热烘烤。
B、判定标准：在参数温度时间下，光刻胶完全烘干。
显影性能：
A、测试方法：将已烘干光刻胶的ITO导电玻璃按生产工艺要求和供应商提供的参数要求分别进行显影。
B、判定标准：显影完全，针孔比例在要求范围内。
固化阻蚀性能：
A、测试方法：将已显影光刻胶的ITO导电玻璃按生产工艺要求和供应商提供的参数要求分别进行固化、蚀刻脱胶去膜。
B、判定标准：固化完全，蚀刻后针孔比例在要求范围内，蚀刻后去胶干净无残留。

4、光刻胶的使用方法：


   
5、光刻胶的贮存及搬运方法：

光刻胶贮存时要密闭、防潮、遮光，在室温中贮存。不能与其他化学品混放。
搬运时按化学品规定管制。